| 化学增幅抗蚀剂用光产酸剂——硫鎓盐的合成方法 |
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| 引用本文： | 王文君.化学增幅抗蚀剂用光产酸剂——硫鎓盐的合成方法[J].中国环境管理干部学院学报,2005,15(2):55-58. |
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| 作者姓名： | 王文君 |
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| 作者单位： | 中国环境管理干部学院,河北,秦皇岛,066004 |
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| 摘 要： | 介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂--硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法,指出合成193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性.
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| 关 键 词： | 光产酸剂 光致抗蚀剂 化学增幅 硫鎓盐 |
| 文章编号： | 1008-813(2005)02-0055-04 |
| 修稿时间： | 2005年3月21日 |
Photoacid generator used in the chemical amplified photoresist--the method of synthesization of sulfonium salts |
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| WANG Wen-jun.Photoacid generator used in the chemical amplified photoresist--the method of synthesization of sulfonium salts[J].Journal of Environmental Management College of China,2005,15(2):55-58. |
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| Authors: | WANG Wen-jun |
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| Abstract: | This paper introduces the latest development of the photoresist and the photoacid generator (PAG) used in the chemical amplified photoresist -the preparation of the sulfonium salts. Meantime, PAGs in the 193nm photoresist is discussed. It points out that it is very significant to prepare the PAGs used in the 193nm photoresist. |
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| Keywords: | 193nm |
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