电子工业光致抗蚀剂乳化废水预处理试验研究

研究了光致抗蚀剂乳化废水用硫酸和含钙辅助破乳分离出有机物沉淀的预处理工艺。确定了最合适的预处理工艺参数和流程；用GC／MS法分析了废水的组成和浓度，并探讨了有机物的去除机理。试验结果表明，pH值控制在3，辅助剂A的浓度为300mg/L、静置时间为60min时，是最合适的工艺条件，废水的CODcr值从15600mg/L下降到3542mg/L，CODcr的去除率达77.4%，投加辅助剂后既提高了有机物的去除率，又改善了沉淀物的过滤性能，从而有利于降低后续工艺的处理成本。     

化学增幅抗蚀剂用光产酸剂——硫鎓盐的合成方法

介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂--硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法,指出合成193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性.     

光致抗蚀剂乳化废水中有机物GC/MS分析

采用色谱－质谱（GC／MS）联用分析仪分析了电子工业光致抗蚀剂乳化废水中的有机化合物成份，测定了该废水中各种有机污染物的含量。分析结果表明：电子工业中光致抗蚀剂乳化废水的主要成份为有机酸类、醛类、酯类、胺类、芳香酮类、酸酐类、砜类、聚醚类、醇类、芳香烃类、杂环类十一大类有机化合物，其中聚丙二醇类、脂肪酸类、丁烯酸类、苯甲酸类、苯甲酸胺、烷基酚聚氧乙烯醚类和噻吩类约占总有机碳含量的95％以上。有机污染物的分析测定对此类废水的处理工艺的研究具有重要的指导作用。     

铁屑微电解法处理光致抗蚀剂废水的初步研究

初步研究了铁屑微电解法处理先致抗蚀剂废水；对废水pH值、曝气、铁屑和活性炭的用量等作了单因素影响试验。正交试验结果表明：当铁屑投加量50．0g／L，活性碳投加量5．0g／L，废水pH值2．0，反应时间60min时，CODCr去除率达42％。