半导体行业含氟废水处理的研究

在过去几年,中国的半导体工业得到了迅速的发展,同时也带来了新的环境问题,其中尤以含氟废水的危害最为严重。文章详细介绍了某半导体企业含氟废水处理站,包括含氟废水的来源,危害,常用的处理方法,实验情况,本工程采用的工艺流程和运行情况等。实验数据和工程运行情况都证明,pH值为7．5—8．5时,以化学沉淀法和混凝沉淀法处理含氟废水效果最好。实践证明利用强酸强碱调节废水pH值后,采用CaCl2处理含氟废水,具有操作简便和处理费用低等优点,同时针对CaF2沉淀对处理设备的影响提出了有效措施。     

半导体制造业降低全氟化碳(PFC_S)排放的研究

半导体制造业作为信息产业的基础,半导体元件的需求增长迅速。半导体行业的环保节能研究已成为技术发展的主题。全氟化碳(PFCS)为目前认为具有高温室气体暖化潜势的气体,也是《京都议定书》控制的6种温室气体之一,对气候的影响能力不可忽视。全球各半导体行业、环保部门及相关研究机构仍在不断努力减排。本文从半导体行业中PFCS的排放现状、产污环节、排放特点、污控途径、激励措施等方面对其减排途径进行了研究和分析。     

2012年财政补贴推广半导体照明产品招标工作启动

根据《财政部、国家发展改革委关于印发〈高效照明产品推广财政补贴资金管理暂行办法〉的通知》(财建[2007]1027号),为鼓励LED照明示范应用,引导LED照明产业健康有序发展,发改委环资司和财政部经建司、科技部高新司共同委托中国电子进出口总公司对2012年财政补贴推广LED照明产品进行国内公开招标,确定高效照     

半导体材料生产排放污染物对活性污泥酶活性的影响

采用控制MLSC为2000mg/L的静态试验,研究GaAs、Ga~(3+)、In~(3+)、As(V)对活性污泥脱氢酶、脲酶、蛋白酶活性的影响.结果表明,抑制10％脱氢酶、脲酶活性的GaAs浓度分别为80.3mg/gMLSS和29.0mg/g MLSS;抑制10％脱氢酶、脲酶、蛋白酶活性时,Ga~(3+)浓度分别为228.5mg/gMLSS、56.0mg/g MLSS、204mg/g MLSS;In~(3+)浓度则分别为25.4mg/g MLSS、89.0mg/g MLSS、132.4mg/g MLSS;As(V)浓度分别为552.6mg/g MLSS、464.6mg/g MLSS、193.7mg/g MLSS.     

Abatement of waste gases and water during the processes of semiconductor fabrication

The purpose of this article is to examine the methods and equipment for abating waste gases and water produced during the manufacture of semiconductor materials and devices. Three separating methods and equipment are used to control three different groups of electronic wastes. The first group includes arsine and phosphine emitted during the processes of semiconductor materials manufacture. The abatement procedure for this group of pollutants consists of adding iodates, cupric and manganese salts to a multiple shower tower ( MST ) structure. The second group includes pollutants containing arsenic, phosphorus, HF, HCI, NO2, and SO3 emitted during the manufacture of semiconductor materials and devices. The abatement procedure involves mixing oxidants and bases in an oval column with a separator in the middle. The third group consists of the ions of As, P and heavy metals contained in the waste water. The abatement procedure includes adding CaCO3 and ferric salts in a flocculation-sedimentation compact device equipment. Test results showed that all waste gases and water after the abatement orocedures oresented in this article passed the discharge standards set by the State Environmental Protection Administration of China.     

绿色制造在东方破晓

飞思卡尔半导体（中国）有限公司前身系摩托罗拉（中国）电子公司，具有70多年的悠久历史。以飞思卡尔命名的在中国的新公司成立于2004年5月1日。飞思卡尔在中国的公司集当今全球最先进的半导体封装测试技术，以年产4．5亿只芯片的能力，成为汽车电子、移动通讯、电子计算机以及高级程控平台的主要供货商。赢得像摩托罗拉、诺基亚、福特、通用、克莱斯勒等众多世界知名客户。公司拥有5000多个专利，“轻、薄、短、小”高性能低成本的产品设计，“对产品零缺陷、顾客零抱怨”的不懈追求使飞思卡尔走在世界高端电子制造技术的前列多项世界级顶尖技术和产品，在全球同行业处于领先地位。     

半导体光催化氧化

主要介绍半导体光催化氧化降解有机污染物的过程和影响光催化氧化活性的因素，指出了光催化氧化领域的一些新进展。     

二氧化钛纳米材料的合成及其在环保领域的应用研究进展

综述了近年来纳米TiO2光催化剂在制备方法、表面改性、光催化氧化机理及应用方面的研究进展，提出了半导体催化剂的研究发展的方向。     

臭氧发生系统中半导体制冷干燥装置的研制

本文介绍了未经过干燥处理的原料气进入电晕放电臭氧发生系统后的危害机理 ,根据半导体的制冷干燥机理 ,开发研制了实验室用半导体制冷干燥装置 ,实验证明该装置的研制是成功的。     

废水中染料的TiO_2光催化氧化降解机理研究现状

系统论述了废水中TiO2光催化氧化降解染料的机理、动力学机制、染料的反应活性、研究中间降解产物的方法和结果等的研究现状,指出了目前研究中最大难点是分析手段的不足,对此提出了自己的看法,这为今后实际废水处理工艺过程中起到指导控制作用。