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半导体废水中,含铜废液一般采用委托处理的方式,而含铜废水通常采用与酸性废水混合后进入中和系统再排放。在300 mm晶圆制造过程中,由于含铜废水水量波动大,如果未经有效处理就排放,容易造成总排口铜的超标。采用铁炭微电解对半导体含铜废水处理,研究表明:投加铁炭填料100 g/L,pH调至2.2,反应60分钟进水水质指标范围,铜的去除率可以达到97%以上。  相似文献   
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